モモンガ アクリルルーム 390

モモンガ アクリルルーム 390

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(注意) 2. 数理物質科学研究科(数理物質系)の方は、手続きの簡素化のため、複数の装置を使う場合でも、利用申請書を研究室で1件ご提出して頂ければ十分です。                     

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芝浦メカトロニクス社製CFS-4EP-LL
基板テーブル:Φ220 mm
ターゲット:Φ3インチGUN x 4基
(強磁性体材料用GUN1基含む)
使用ガス:Ar, O2, N2ガス

インベスターZ  全巻(1巻〜21巻)">
≪装置停止情報 2/21現在≫
なし
≪2021年度 装置講習会に関して≫
新型コロナウイルス感染症の感染対策として、研究室にライセンス所持者のいない人のみが対象となります。
≪第12 回装置講習会~3月~≫
*ダイシングマシン講習会(3/9 13:30--15:30)を 共同研究棟C309室で行ないます。*パターン投影リソグラフィ装置講習会(3/17, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで(先着2名)
時間課金(参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第10 回装置講習会~1月~≫
*ダイシングマシン講習会(中止) ダイシングマシン故障のため。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(1/27, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで(先着2名)
時間課金(参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第8 回装置講習会~11月~≫
*ダイシングマシン講習会(中止) ダイシングマシン故障のため。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(11/25, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで(先着2名)
時間課金(参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第6 回装置講習会~9月~≫
*ダイシングマシン講習会(中止) ダイシングマシン故障のため。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(9/14, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで(先着2名)
時間課金(参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第4 回装置講習会~7月~≫
*ダイシングマシン講習会(7/,21 13:30--15:30)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(7/29, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで(先着2名)
時間課金(参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第2 回装置講習会~5月~≫
*ダイシングマシン講習会(5/20, 13:30--15:30)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(5/20, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで(先着2名)
時間課金(参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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